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產(chǎn)品應(yīng)用 半導(dǎo)體IC制造 IF系列環(huán)保型清洗劑在半導(dǎo)體清洗中的應(yīng)用

IF系列環(huán)保型清洗劑在半導(dǎo)體清洗中的應(yīng)用

2019-09-29 670

半導(dǎo)體行業(yè)主要涵蓋:半導(dǎo)體原材料生產(chǎn)制造;芯片集成電路的IC設(shè)計(jì)、制造、封測(cè);服務(wù)器、手機(jī)、汽車電子、通訊設(shè)備等終端電子產(chǎn)品的生產(chǎn)和制造。在半導(dǎo)體生產(chǎn)制造的過(guò)程中,工件將不可避免的受到灰塵、金屬顆粒、油脂等有機(jī)物和無(wú)機(jī)物等污染物的污染,從而造成工件表現(xiàn)缺陷、孔內(nèi)污染,大大降低良品率。因此,利用清洗技術(shù)去除附著在工件表面的灰塵、金屬顆粒、油脂等有機(jī)物和無(wú)機(jī)物等污染物是半導(dǎo)體生產(chǎn)制造工藝中必不可少的關(guān)鍵工藝之一。

正溴丙烷(nPB)、二氯甲烷(DCM)、三氯乙烯(TCE)、四氯乙烯(PERC)、三氟三氯乙烷(CFC-113)、一氟二氯乙烷(HCFC-141b)等溶劑型清洗劑產(chǎn)品,由于其無(wú)閃點(diǎn)、不可燃、溶解能力強(qiáng),同時(shí)又具有較低的成本,因此備受半導(dǎo)體行業(yè)青睞而得到廣泛應(yīng)用。但這些溶劑型清洗劑對(duì)臭氧層有破壞作用,屬于消耗臭氧層物質(zhì)(ODS),具有一定ODP值(破壞臭氧潛值)和較高的GWP值(全球變暖潛值),屬于非環(huán)保型清洗劑,為強(qiáng)制淘汰產(chǎn)品。另外,其中有些清洗劑屬于有毒有害物質(zhì),長(zhǎng)期接觸將影響身體健康甚至導(dǎo)致職業(yè)病的產(chǎn)生。為保護(hù)作業(yè)者健康和符合環(huán)保要求,半導(dǎo)體行業(yè)在使用溶劑清洗劑時(shí),需要選擇能夠降低健康風(fēng)險(xiǎn)和符合環(huán)保要求的溶劑清洗劑產(chǎn)品。

為保護(hù)作業(yè)者身體健康和符合環(huán)保要求,宇極科技以環(huán)保型有機(jī)溶劑為基材,開發(fā)出了ODS物質(zhì)溶劑清洗劑產(chǎn)品的替代品 — InnoFluo系列(簡(jiǎn)稱IF系列)半導(dǎo)體溶劑清洗劑。IF系列半導(dǎo)體溶劑清洗劑產(chǎn)品特性(表1)與CFC-113和HCFC-141b等傳統(tǒng)溶劑清洗劑十分相似。IF系列半導(dǎo)體溶劑清洗劑是一種ODP值為0、GWP值低、無(wú)閃點(diǎn)、不燃、無(wú)毒的安全、環(huán)保型產(chǎn)品,在保證對(duì)油污等有機(jī)物和無(wú)機(jī)物污染物具有極強(qiáng)溶解能力的同時(shí),兼具優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性和熱穩(wěn)定性。

表1. IF系列半導(dǎo)體溶劑清洗劑產(chǎn)品特性

環(huán)保 臭氧消耗潛值(ODP)為0 全球變暖潛值(GWP)低
高效 低表面張力

無(wú)殘留

溶解能力強(qiáng)

干燥速度快

安全 使用過(guò)程無(wú)毒

不燃

無(wú)閃點(diǎn)
穩(wěn)定 優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性

使用過(guò)程成分穩(wěn)定

優(yōu)異的熱穩(wěn)定性
經(jīng)濟(jì) 沸點(diǎn)適中

對(duì)設(shè)備要求不高

揮發(fā)少、消耗量少

可蒸餾再生循環(huán)使用

 

IF系列半導(dǎo)體溶劑清洗劑產(chǎn)品在清除工件表面助焊劑、油污或指紋等污染物具有優(yōu)異的效果,能夠快速溶解此類污染物并快速揮發(fā),無(wú)殘留。另外,由于IF系列半導(dǎo)體溶劑清洗劑的低表面張力,其更易于滲透至工件間隙清除其中污染物。IF系列半導(dǎo)體溶劑清洗劑的使用方法簡(jiǎn)單方便,可采取浸洗、漂洗、蒸汽浴洗、沖洗、擦拭清洗等,適用于超聲波清洗設(shè)備、噴淋清洗設(shè)備以及手工清洗。